데브허브 | DEVHUB | EUV 마저 자체 개발… 중국 화웨이 2025년 가을 시범 생산한다 | ASML과 다른 방식의 접근 | 트럼프 반도체 규제 의미 없나
중국은 오랜 기간 동안 반도체 기술 의존도를 줄이기 위해 자립 노력을 강화해 왔으며, EUV 기술 분야에서도 자체 연구 개발에 박차를 가하고 있습니다. 2025년 가을 화웨이는 이 EUV 장비의 시범생산을 이야기하고 있는데요. 중국의 반도체 자립 전략은 포토레지스트 재료, 정밀 광학 및 초고진공 시스템 등 핵심 기술 부문에서 기술 개발을 집중하고 있습니다. 이를 통해 중국은 국제 제재와 기술 제한 속에서도 선진 반도체 공정에 필요한 EUV 기술의 내재화를 추진하고 있습니다. EUV 리소그래피는 극자외선(약 13.5nm 파장)을 사용하여 반도체 칩의 패턴을 미세화하는 혁신적인 기술입니다. 이 짧은 파장은 회절 한계를 극복해 5nm 이하의 선폭을 구현할 수 있도록 도와줍니다. 또한, EUV 공정은 고해상도와 정밀한 패터닝을 가능하게 하지만, 극한의 진공 환경과 정밀한 광학 부품, 그리고 복잡한 온도 제어 시스템이 필수적입니다. 그럼에도 불구하고 중국은 반도체 제조 전반에서 외부 의존도를 크게 낮추고 글로벌 경쟁력을 강화할 수 있을 것입니다. EUV 리소그래피의 발전과 중국의 자립 노력은 향후 반도체 산업의 판도를 바꾸는 핵심 요소로 주목받고 있습니다.
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